RPS AX7695 MKS 远程等离子源

描述

MKS RPS AX7695远程等离子源详细介绍

产品概述

MKS RPS AX7695是一款高性能的远程等离子源设备，广泛应用于半导体制造、光伏制造、显示器制造等领域。它能够产生高密度、均匀的等离子体，并提供精确可控的等离子体参数，为各种薄膜沉积、刻蚀等工艺提供所需的等离子体环境。

RPS AX7695 MKS

产品特点

高密度、均匀等离子体：提供高密度、均匀的等离子体，确保工艺的一致性。

可控的等离子体参数：能够精确控制等离子体的功率、频率、气体流量等参数，以满足不同的工艺需求。

稳定运行：具有出色的稳定性，能够长时间稳定运行。

易于集成：设计紧凑，易于集成到各种工艺设备中。

多种气体兼容性：兼容多种工艺气体，适应不同的工艺要求。

产品参数

频率：13.56 MHz

功率：2 kW

等离子体密度：>10^12 cm^-3

等离子体均匀性：<5%

尺寸：600 mm x 400 mm x 300 mm

重量：20 kg

RPS AX7695 MKS

产品系列

RPS AX7695属于MKS公司的远程等离子源系列产品，该系列产品以其高性能、可靠性和灵活性而著称，广泛应用于半导体制造等领域。

作用与用途

薄膜沉积：用于各种薄膜的沉积，如氧化物、氮化物、金属等。

等离子体清洗：用于去除表面污染物，提高表面清洁度。

刻蚀：用于对材料进行刻蚀，形成微纳结构。

表面处理：用于对材料表面进行改性，提高材料性能。

应用领域

半导体制造：晶圆清洗、刻蚀、沉积等工艺。

光伏制造：太阳能电池的制备。

显示器制造：液晶显示器、OLED显示器的制造。

其他领域：生物医学、材料科学等。

RPS AX7695 MKS

优势

高性能：提供高密度、均匀的等离子体，满足高精度工艺要求。

灵活配置：可根据工艺需求灵活调整参数。

可靠性高：采用工业级设计，确保长期稳定运行。

易于维护：模块化设计，易于维护和更换部件。

总结

MKS RPS AX7695是一款功能强大的远程等离子源设备，在半导体制造等领域有着广泛的应用。其高性能、可靠性和灵活性使其成为许多工艺过程的理想选择。